PCB電路板鍍銅保護劑層

帶有鍍銅保護劑的鍍銅層在空氣中不容易被氧化，但不使用時極易被氧化。原因分析表明，它容易被氧化而失去光澤。銅柔軟易活化，能與其他金屬涂層形成良好的金屬-金屬結合，從而獲得涂層間良好的結合力。因此，銅可以作為許多金屬電沉積的底層，鍍銅在印刷電路板制造過程中起著重要的作用。印刷電路板鍍銅包括化學鍍銅和電鍍銅，其中電鍍銅是印刷電路板制造中的一個重要工序。本文主要介紹了電鍍銅技術、技術問題及應注意的一些問題
常見故障的原因及解決方法。
消除此類故障的措施如下：(1)根據霍爾槽試驗或工件情況控制鍍液中光亮劑的消耗比例；不要認為增亮劑越多，亮度越好。當光亮劑過多時，低電流密度區(qū)將有一個明亮和不明亮之間的明確界限，復雜零件的涂層將開花。當增亮劑加入得越多，它就越不亮，有必要考慮它是否太多。此時，如果通過添加少量過氧化氫來提高亮度，則應丟棄一些增白劑。對于任何電鍍添加劑，我們都必須堅持少加多加的原則。
光亮劑成分(如M、N型鍍銅)很多，所以在長期的生產實踐中應積累合適的光亮劑成分比例。經驗表明，光亮鍍銅的開啟劑和補充劑的比例非常嚴格。不同鍍液溫度下，聚二硫代二丙烷磺酸鈉在鍍液中的消耗量較大，M與N的消耗比例也不同。為了獲得補充劑的一般比例，只應考慮25 ~ 30的比例。最理想的情況是將各種增白劑配制成標準稀溶液，并經常使用霍爾槽進行試驗調整。
為了控制鍍液中的氯離子含量，如果懷疑故障是鍍液中氯離子的原因，應首先進行測試和確認。盲目添加鹽酸來調控鍍液中硫酸銅和硫酸的含量也是非常重要的，它們與陽極的溶解和陽極的磷含量有關
光亮劑分解產物在鍍液中的積累會導致鍍層的亮度和流平性差，低電流密度區(qū)差。當發(fā)現在相同鍍液溫度條件下，相同比例的光亮劑消耗遠遠高于正常值時，應懷疑有機雜質過多。有機溶劑過多，鍍液中沒有銅粉；但是附著力差的銅粉會沉淀在涂層上。此時，應處理電鍍液中的有機雜質。此外，不要忽視有機雜質對低電流密度區(qū)亮度的不利影響。當電流很小時，對有機雜質的敏感度特別強。實踐證明，長期未處理的光亮鍍銅溶液，僅用39升優(yōu)質活性炭吸附有機雜質，就能將霍爾元件試件的小電流密度區(qū)全光亮范圍擴大幾毫米。